反渗透膜的清洗方法

               
   　
　　系统的段间压差：一段压差≤0.2Mpa；二段压差≤0.1Mpa。

　　在系统运行参数不变的情况下，通过温度校正系统的产水量恢复设计产水量的85%以上。

　　产水脱盐率变化不超过5%

　　污染情况分析     碳酸钙垢：    碳酸钙垢是一种矿物结垢。当阻垢剂/分散剂添加系统出现故障时，或是加酸pH调节系统出故障而引起给水pH增高时，碳酸钙垢有可能沉积出来。尽早地检测碳酸钙垢，对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的。早期检测出的碳酸钙垢可由降低给水的pH值至3~5，运行1~2小时的方法去除。对于沉积时间长的碳酸钙垢，可用低pH值的柠檬酸溶液清洗去除。    硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢：     硫酸盐垢是比碳酸钙垢硬很多的矿物质垢，且不易去除。硫酸盐垢可在阻垢剂/分散剂添加系统出现故障或加硫酸调节pH时沉积出来。海德能公司认为尽早地检测硫酸盐垢对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的。硫酸钡和硫酸锶垢较难去除，因为它们几乎在所有的清洗溶液中难以溶解，所以，应加以特别的注意以防止此类结垢的生成。     金属氧化物/氢氧化物污染：     典型的金属氧化物和金属氢氧化物污染为铁、锌、锰、铜、铝等。这种垢的形成导因可能是装置管路、容器（罐/槽）的腐蚀产物，或是

　　空气中氧化的金属离子、氯、臭氧、钾、高锰酸盐，或是由在预处理过滤系统中使用铁或铝助凝剂所致。    聚合硅垢：     硅凝胶层垢由溶解性硅的过饱和态及聚合物所致，且非常难以去除。需要注意的是，这种硅的污染不同于硅胶体物的污染。硅胶体物污染可能是由与金属氢氧化物缔合或是与有机物缔合而造成的。硅垢的去除很艰难，可采用传统的化学清洗方法。如果传统的方法不能解决这种垢的去除问题，请与海德能公司技术部门联系。现有的化学清洗药剂，如氟化氢铵，已在一些项目上得到了成功的使用，但使用时须考虑此方法的操作危害和对设备的损坏，加以防护措施。    胶体污染：     胶体是悬浮在水中的无机物或是有机与无机混合物的颗粒，它不会由于自身重力而沉淀。胶体物通常含有以下一个或多个主要组份，如：铁、铝、硅、硫或有机物。    非溶性的天然有机物污染（NOM）：     非溶性天然有机物污染（NOM--Natural Organic Matter）通常是由地表水或深井水中的营养物的分解而导致的。有机污染的化学机理很复杂，主要的有机组份或是腐植酸，或是灰黄霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用产生，渐渐地结成凝胶或块状的污染过程就会开始。    微生物沉积：     有机沉积物是由细菌粘泥、真菌、霉菌等生成的，这种污染物较难去除，尤其是在给水通路被完全堵塞的情况下。给水通路堵塞会使清洁的进水难以充分均匀的进入膜元件内。为抑制这种沉积物的进一步生长，重要的是不仅要清洁和维护RO系统，同时还要清洁预处理、管道及端头等。对膜元件采用氧化性杀菌时，请与海德能公司技术支持部门联系，使用认可的杀菌剂。  3 清洗液的选择和使用     选择适宜的化学清洗药剂及合理的清洗方案涉及许多因素。首先要与海德能公司的服务人员取得联系，确定主要的污染物，选择合适的

　　化学清洗药剂。有时针对某种特殊的污染物或污染状况，要使用RO药剂制造商的专用化学清洗药剂，并且在应用时要遵循药剂供应商提供的产品性能及使用说明。有的时候可针对具体情况，从反渗透装置取出已发生污染的单支膜元件进行测试和清洗试验，以确定合适的化学药剂和清洗方案。     为达到最佳的清洗效果，有时会使用一些不同的化学清洗药剂进行组合清洗。     典型的程序是先在低pH值范围的情况下进行清洗，去除矿物质垢污染物，然后再进行高pH值清洗，去除有机物。有些清洗溶液中加入了洗涤剂以帮助去除严重的生物和有机碎片垢物，同时，可用其它药剂如EDTA螯合物来辅助去除胶体、有机物、微生物及硫酸盐垢。    需要慎重考虑的是如果选择了不适当的化学清洗方法和药剂，污染情况会更加恶化。

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　　清洗液选配

　　配制100加仑（379升）溶液时的加入量   pH节

　　1 柠檬酸     17.0 磅 （ 7.7 kg ）        用氨水调节pH至3.0

　　2 EDTA）  17.0 磅 （ 7.7 ）         用硫酸调节pH至10.0

　　3     三聚磷酸钠    17.0 磅 （ 7.7 ）

　　十二烷基苯磺酸钠                         用硫酸调节pH至10.0